公司自1946年创建以来，一直秉承客户至上的信念，持续不断努力开发，拓展业务，以适应时代需求。尤其在真空泵领域，坚持不懈地研究创新，制造出了极其先进的高科技产品。公司生产的真空设备已被广泛应用于包括半导体制造业和液晶显示制造业的高科技领域中。KASHIYAMA工业的干式真空泵系列已经成为半导体制造业与液晶显示制造行业的标准设备。并，除此之外，鲁式及排气组合式真空泵设备则在其他领域得到广泛应用。

MU-P/H系列

High Temp., More Purge. Process Durability. Smallest Power Consumption for Process by roots. Power Consumption 0.7kW. Roots dry pump good in process durability and low power consumption. Applicable to wide range of process from light to medium duty. Hot N2 purge available to enhance process durability. [MU-H Series]

规格。/产品	每小时100便士	每小时180便士	MU300P/H	MU600P/H	MU1218P/H	MU20N18P/H	MU30N18P/H
*值抽速 [升/分钟]2	1,660	3,000	5,000	10,000	20,000	30,000	50,000
极限压强 [啪]*2	3.0	5.0	0.5
电源电压 (50/60赫兹)	三相交流200至220伏*3
功率消耗 [千瓦]*4	0.7	1.0	0.9	0.95	1.4	1.5	1.6
尺寸[毫米]长×宽×高*5	630×350×360	715×360×408	630×350×520		870×380×751	1000×450×950
质量[千克]	70	130	110	130	280	410	410

*1)事先与我们联系申请事宜。*2)不带N2清洗。*3)如需其他电压选项，请联系我们。
*4)大约。极限压力下的值，+0.2kW，热N2清洗。*5)包装尺寸。
*联系我们了解国际标准合规性。规格。产品名称如有变更，恕不另行通知。
*关于大容量泵，请联系我们。

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真空泵

MU-P/H系列

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